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Estudio por microscopía de fuerza atómica de películas delgadas depositadas por PVD (physical vapor deposition) sobre Si (100)
por:
Corengia, Pablo; Ybarra, Gabriel; Mendive, Damián; Egidi, Daniel; Fraigi, Liliana; Quinteiro, Mario; Moina, Carlos
Materias: Películas delgadas; Microscopía; Deposición; Topografía; Rugosidad de superficies
INTI-Mecánica, INTI-Procesos Superficiales, INTI-Electrónica e Informática; 2000
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