Colección INTI +

Liu, F.H.
Crecimiento epitaxial de grafeno en SiC(0001) para su aplicación como resistencia estándar
por: Real, M.A.; Tonina, A.; Elmquist, R.E.; Lass, E.A.; Liu, F.H.; Soons, J.
Materias: Circuitos integrados; Carburos; Silicio
INTI; 2013