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Yapur, G.

Avances en el desarrollo de láser de 532nm estabilizado para aplicaciones en metrología
por: Volij, M. A.; Yapur, G.; Codnia, J.; Bastida, K.
Materias:Lasers; Desarrollo; Metrología; Trazabilidad; Estabilización; Patrones
INTI;2022

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